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夏普发布氧化物TFT液晶面板技术

2009-12-17 依马狮广电网


    最近,夏普在显示器技术国际学会“16th International Display Workshops(IDW ’09)”的氧化物TFT分会上,发布了其首次试制的氧化物TFT液晶面板技术,并在开发者见面会(Authors interview)上演示2.6英寸QVGA(320×240像素)面板。
    TFT结构为传统的反向通道蚀刻(Back Channel Etch)型。氧化物半导体采用IGZO(In-Ga-Zn-O)。 
    特性偏差方面,通过对320mm×400mm底板上的21个点进行测量,迁移率μ=13.4±0.9cm2/Vs(σ=0.5),阈值电压Vth=3.0±0.4V(σ=0.2)。对于人们关心的可靠性,夏普称基于DC偏压应力的Vth偏移在25℃下为非晶硅(a-Si)TFT的1/4左右程度,在85℃下是其1/10左右。基于脉冲偏压的Vth偏移在60℃下为a-Si TFT的70%左右。该公司称,作为液晶面板工作时,在60℃条件下,其TFT特性1000小时内不会发生变化。

夏普

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