9月9日，中国工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》，其中，氟化氩光刻机（DUV）的亮相尤其引人关注。
《目录》显示，DUV光刻机为8nm以下制程，193nm的光源波长，可精细雕琢出小于65nm的图案。业内人士指出，DUV光刻机的诞生，将为中国半导体制造业赋予了新的动力，是中国科技自主创新的重要标志，也预示着中国半导体制造业的强势崛起。而DUV光刻机的推广应用，不仅将提升中国半导体制造业的技术水平，还可极大增强自主创新能力，减少了对国外技术的依赖；经济上，它将降低进口成本，提高国内芯片的自给率，增强我国在全球经济中的竞争力。